Lời nói đầu
\r\n\r\nTCVN 6854 : 2001 hoàn toàn t
TCVN 6854 : 2001 do Ban kỹ thuật tiêu\r\nchuẩn TCVN/
Tiêu chuẩn này được chuyển đổi năm\r\n2008 từ Tiêu chuẩn Việt Nam cùng số hiệu thành Tiêu chuẩn Quốc gia theo quy\r\nđịnh tại Khoản 1 Điều 69 của Luật Tiêu chuẩn và Quy chuẩn kỹ thuật và điểm a\r\nkhoản 1 Điều 6 Nghị định số 127/2007/NĐ-CP ngày 1/8/2007 c
Lời giới thiệu
\r\n\r\nTiêu chuẩn này nhằm xác định các đi
Việc so sánh trực tiếp kết quả của\r\nphương pháp tẩy xạ này với các kết quả thu được khi áp dụng các quy định hoặc\r\ntiêu chuẩn quốc gia khác có thể sẽ không hiệu quả hoặc không phù hợp do bản\r\nchất khác nhau của phương pháp được sử dụng.
\r\n\r\nCác phụ lục A, B,
\r\n\r\n
Đặc tính kỹ thuật được quy định trong\r\ntiêu chuẩn này áp dụng cho việc thử nghiệm các bề mặt bị nhiễm xạ.
\r\n\r\nDữ liệu về khả năng tẩy xạ thu được\r\nkhi áp dụng phương pháp thử này không áp dụng cho các hệ thống kỹ thuật mà ở đó\r\ncác lớp vật chất gây nhiễm xạ được hình thành sau một thời gian dài chịu nhiệt\r\nđộ và áp suất cao hơn (ví dụ như các vòng sơ cấp của lò phản ứng hạt nhân).
\r\n\r\nMục đích của thử nghiệm này là đánh\r\ngiá tính dễ tẩy xạ của bề mặt trong điều kiện phòng thí nghiệm. Trong ứng dụng\r\nthực tế, việc xem xét các tính chất khác, như tính bền hóa, cơ và phóng xạ; và\r\ntính ổn định lâu dài khi lựa chọn vật liệu để sử dụng có thể sẽ quan trọng
ISO 15, Rolling bearings - Radial\r\nbearings - Boudary dimensions - General plan
\r\n\r\nISO 273, Fasteners - Clearance holes\r\nfor bolts and screws
\r\n\r\nISO 683-13, Heat-treated steels, alloy\r\nsteels and free-cutting steels - Part 13: Wrought stainless steels
\r\n\r\nISO 2009, Slotted coutersunk head\r\nscrews (common head style) - Product grade A
\r\n\r\nISO 2010, Slotted raise coutersunk\r\nhead screws (head style) - Product grade A
\r\n\r\nISO 4762, Hexagon
Các định nghĩa sau được sử dụng trong\r\ntiêu chuẩn này:
\r\n\r\n3.1. Nhiễm xạ\r\n(contamination):
\r\n\r\nSự có mặt không mong muốn của hạt nhân\r\nphóng xạ trên bề mặt hoặc ngấm không sâu vào bề mặt.
\r\n\r\n3.2. Tẩy xạ\r\n(decontamination):
\r\n\r\nViệc loại đi toàn bộ hoặc một phần sự\r\nnhiễm xạ mà không làm thay đổi các tính chất của bề mặt.
\r\n\r\n3.3. Tốc độ đếm xung riêng\r\n(specific pulse rate):
\r\n\r\nTốc độ đếm xung gây ra bởi 1 ml dung\r\ndịch nhiễm xạ.
Tốc độ đếm này được tính bằng\r\nxung/min/ml. Các tốc độ đếm xung được thu được do các chu kỳ đếm
3.4. Tốc độ đếm xung tồn\r\ndư\r\n(residual\r\npulse rate):
\r\n\r\nTốc độ đếm xung gây ra bởi các hạt\r\nnhân phóng xạ tồn dư trên bề mặt đã thử nghiệm của mẫu sau khi được tẩy xạ\r\ntrong thiết bị đo trong điều kiện hình học đã cho.
\r\n\r\nTốc độ đếm này được tính bằng số\r\nxung/min.
\r\n\r\n3.5. Tốc độ đếm xung tồn\r\ndư trung bình (mean residual pulse rate):
\r\n\r\nTrung bình số học của trị số tần suất\r\nxung tồn dư thu được đối với năm mẫu thử bị nhiễm xạ bởi cùng một hạt nhân\r\nphóng xạ.
\r\n\r\nTốc độ đếm xung này được tính bằng\r\nxung/min.
\r\n\r\n3.6. Tốc độ đếm xung tồn\r\ndư trung bình tiêu chuẩn hóa (standardized mean residual pulse rate):
\r\n\r\nTrị số của tốc độ đếm xung tồn dư\r\ntrung bình đã được hiệu chỉnh. Hệ số hiệu chỉnh thu được bằng cách chia giá trị\r\ntham chiếu của tốc độ đếm xung riêng cho tốc độ đếm xung của dung dịch gây\r\nnhiễm xạ sử dụng khi thử nghiệm.
\r\n\r\nTốc độ đếm xung này được tính bằng\r\nxung/min.
\r\n\r\nMục đích của hệ số hiệu chỉnh là nhằm\r\nkhắc phục sự sai khác về giá trị tốc độ xung riêng của các dung dịch gây nhiễm\r\nxạ được sử dụng trong các phòng thí nghiệm khác nhau.
\r\n\r\n3.7. Tốc độ đếm xung tồn\r\ndư cuối cùng (final residual pulse rate):
\r\n\r\nTrung bình s
Chu kỳ này được tính bằng xung/min.
\r\n\r\n\r\n\r\nChuẩn bị một loạt các dung dịch gây\r\nnhiễm xạ riêng biệt chứa 60Co và 137
Làm nhiễm xạ một diện tích xác định tr
Tính toán tốc độ đếm xung tồn dư trung\r\nbình tiêu chuẩn hóa đối với mỗi hạt nhân phóng xạ.
Các thiết bị thông thường của phòng\r\nthí nghiệm, và
\r\n\r\n5.1. Hai cốc thủy tinh có\r\nmỏ,\r\ncốc loại thấp, có dung tích 2000 ml và đạt yêu cầu của ISO 3819
\r\n\r\n5.2. Đầu dò bức xạ và\r\nthiết bị điện tử kết nối để xác định tốc độ đếm xung.
\r\n\r\nKích thước tối thiểu vùng nhạy của đầu\r\ndò phải có đường kính 30 mm, nhưng trong thực tế do yêu cầu hình học quy định\r\nthường phải sử dụng một vùng nhạy lớn hơn. Các loại đầu dò thích hợp bao gồm các\r\nloại: ống đếm tỉ
Để phù hợp với các yêu cầu hình học,\r\ntỷ số (l
Nếu yêu cầu hình học quy định không\r\nthỏa mãn [tức là (l
a) đối với việc xác định tốc độ đếm xung\r\nriêng (xem 8.1), dùng 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ được nhỏ đều từng giọt lên\r\nmột diện tích hình tròn có đường kính 25 mm, tức là diện tích của mẫu thử được\r\nlàm nhiễm xạ.
\r\n\r\nb) tốc độ đếm xung thực của 100 µl dung\r\ndịch nhiễm xạ được đo trong các điều kiện hình học này không được nhỏ hơn\r\n200.000 xung/min (xem 8.1)
\r\n\r\nChú ý - Phải có thiết bị riêng cho hai\r\nhạt nhân phóng xạ để ngăn ngừa sự nhiễm xạ chéo, các thiết bị được nêu trong\r\ncác điều 5.3 và 5.6.
\r\n\r\n5.3. Hai pipet,
5.4. Hai pipet,
5.5. Hai cốc có mỏ bằng\r\npolytetraf
5.6. Hai bình đựng làm\r\nbằng polytetrafl
Chú thích - Những vật liệu được flo hóa\r\ncó độ bền hóa học tương tự có thể dùng thay thế cho
5.7. Năm giá kẹp để giữ\r\nmẫu,\r\nlàm bằng poly (metyl metacrylat) (PMMA), dùng để định vị cho công đoạn gây\r\nnhiễm xạ (xem phụ lục A).
\r\n\r\nMỗi giá kẹp có một vòng cao su
Chú thích - Cao su
Trước khi sử dụng lần đầu, các vòng\r\ncao su phải được rửa sạch bằng hỗn hợp dung môi hữu cơ để rửa các mẫu thử. Các\r\nvòng này chỉ nên sử dụng lại sau khi đã tẩy xạ kỹ.
\r\n\r\nChú thích - Mười giá kẹp, năm cái cho\r\nmỗi hạt nhân phóng xạ, sẽ làm giảm đáng kể thời gian cần thiết để tiến hành thử\r\nnghiệm và phòng ngừa sự nhiễm xạ chéo.
\r\n\r\n5.8. Máy khuấy dạng buồng
6.1. Dung dịch gây nhiễm\r\nxạ
\r\n\r\n6.1.1. Thành phần của các\r\ndung dịch gây nhiễm xạ
\r\n\r\nCác mẫu thử gây nhiễm xạ chứa
Việc sử dụng các hạt nhân phóng xạ\r\nkhác trong các dung dịch nước có thể thích hợp hơn về mặt chủng loại\r\nvà tính chất hóa học đối với mục đích định trước của vật liệu bề mặt, nhưng cần\r\ntham khảo ý kiến của phòng thử nghiệm.
\r\n\r\nTuy nhiên, các dung dịch gây nhiễm xạ\r\ncần phải bền vững về mặt hóa học và không ăn mòn các mẫu thử. Các mẫu được tẩy\r\nxạ phải có độ bền cao để cho phép đo được độ nhiễm xạ tồn dư. Trường hợp các\r\nhạt nhân phóng xạ mà bức xạ phát ra có thể bị hấp thụ thì có thể dùng những kỹ\r\nthuật đo đặc biệt.
\r\n\r\nNồng độ phóng xạ của dung dịch gây nhiễm\r\nxạ phải đủ lớn sao cho 100 µl mẫu thử sau khi bay hơi tạo ra một tốc độ đếm\r\nxung không nhỏ hơn 200.000 xung/min trong dụng cụ đo, sau khi đã hiệu chỉnh\r\nthời gian chết và phông.
\r\n\r\nChú thích - Nồng độ hoạt độ 0,2 MBq/ml\r\nđủ để đáp ứng yêu cầu.
\r\n\r\nCác hạt nhân phóng xạ phải được dùng v
6.1.2. Chuẩn bị các dung\r\ndịch gây nhiễm xạ
\r\n\r\n6.1.2.1. Trừ các ion Co2
6.1.2.2. Trên cơ sở các số\r\nliệu đã có về nồng độ phóng xạ của dung dịch gốc 137Cs và
6.1.2.3. Bước tiếp theo là từ\r\nlượng đầu vào tính ra lượng chất mang cần dùng với các hạt nhân phóng xạ và từ\r\nđó tính lượng dung dịch coban (II) nitrat [Co(NO3
6.1.2.4. Làm bay hơi hết hỗn\r\nhợp bằng cách dùng đèn hồng ngoại đến khi quá trình bay hơi kết thúc. Sau đó nung nóng bình\r\ntrong 2 giờ nữa bằng đèn hồng ngoại ở khoảng cách gấp đôi khoảng cách ban đầu.\r\nSau khi làm nguội, thêm vừa đủ axit nitric có pH 4 [thực hiện bằng cách pha\r\nloãng 7 µl axit nitric (ρ = 1,4 g/ml) thành 1 I bằng nước cất hai lần].
\r\n\r\nKiểm tra tốc độ đếm xung riêng của\r\ndung dịch đã khuấy kỹ theo 8.1.
\r\n\r\nViệc xác định giá trị pH được tiến\r\nhành ít nhất 12 giờ sau khi hòa tan cặn khô.
\r\n\r\n6.1.2.5. Để tránh thành bình\r\nlàm thay đổi nồng độ, các dung dịch riêng biệt phải đựng trong bình bằng\r\npolytetraf
6.1.2.6. Dung dịch được chuẩn\r\nbị theo quy trình trên có thể dùng được khi độ pH nằm trong phạm vi đã định và\r\nhoạt độ phóng xạ riêng thay đổi không quá 5 % so với giá trị ban đầu (sau khi\r\nhiệu chỉnh có tính đến sự phân rã).
\r\n\r\n6.2. Tác nhân tẩy xạ
\r\n\r\nNước đã khử khoáng (độ dẫn tối đa là 3\r\nµS/cm) được sử dụng như là tác nhân tẩy xạ cho các thử nghiệm ở nhiệt độ 23 °
7.1. Chuẩn bị và thử\r\nnghiệm sơ bộ
\r\n\r\n7.1.1. Độ trơ đối với dung\r\ndịch làm sạch
\r\n\r\nĐể tiến hành thử nghiệm sơ bộ, một mẫu\r\nthử có ít nhất một mặt phẳn
a) nhúng một miếng bông nhỏ vào chất lỏng\r\nlàm sạch, và đặt lên bề mặt của mẫu thử và đậy lại bằng một đĩa Petri;
\r\n\r\nb) sau khi cho tiếp xúc 10 phút, lấy\r\nmiếng bông đi và rửa sạch mẫu thử bằng nước;
\r\n\r\nc) sấy khô mẫu thử trong 1 giờ ở nhiệt độ\r\n40 °C
d) quan sát mẫu thử bằng mắt.
\r\n\r\nMẫu thử nào có thay đổi một chút về màu sắc và\r\nđộ bóng thì không dùng để thử nghiệm được.
\r\n\r\n7.1.2. M
Các vật liệu phi kim loại được dùng để\r\nthử nghiệm - thí dụ: polyme cao phân tử, thủy tinh, gốm - phải có bề mặt có\r\nchất lượng đặc trưng của những vật liệu được sử dụng trong thực tế.
\r\n\r\nNếu mặt sau của mẫu thử xốp hoặc bằng\r\nmột kim loại không được bao phủ thì mặt sau và các cạnh phải được phủ sao cho dễ tẩy xạ\r\n(thí dụ bằng cách sử dụng lớp phủ nhựa epoxy, polyuretan hoặc cao su clorinat).
\r\n\r\nĐể chuẩn bị mẫu thử với lớp phủ, phải\r\nlấy một mẫu đại diện từ vật liệu che phủ cần phải nghiên cứu và chuẩn bị cho\r\nviệc thử nghiệm theo các phương pháp của tiêu chuẩn thích hợp.
\r\n\r\nVật liệu che phủ phải được đặt lên đầu\r\nkẹp hoặc giá đỡ một cách tương tự như khi sử dụng trong thực tế và phải được xử\r\nlý tiếp theo một cách thích đáng; mọi việc xử lý khác, thí dụ như gia nhiệt\r\nthêm, đều không được phép.
\r\n\r\nThời gian chuẩn bị mẫu thử phải được\r\nghi rõ.
\r\n\r\n7.1.3. M
Mẫu thử bằng kim loại hoặc với bề mặt\r\nkim loại phải được xử lý trước một cách điển hình cho việc sử dụng trong thực tế. Để\r\nche phủ mặt sau và các cạnh, xem 7.1.2.
\r\n\r\nĐộ nhám bề mặt (trị số nhám trung\r\nbình) phải được nhà sản xuất xác định và ghi trong bản mô tả vật liệu dùng làm\r\nmẫu thử.
\r\n\r\n7.2. Số lượng và kích\r\nthước
\r\n\r\nĐể tiến hành thử nghiệm, cần phải\r\nchuẩn bị 15 mẫu thử giống nhau và trong số đó ít nhất có hai nhóm gồm 5 mẫu\r\nphải được thử nghiệm trong hai phép thử đồng thời.
\r\n\r\nChú thích - Những mẫu thử còn lại được\r\ndùng cho thử nghiệm sơ
Các mẫu thử phải có kích thước ![](\"00911778_files/image002.gif\"){kind=small}
Các chiều khác nhau của mẫu thử và\r\nđiều kiện khác cho việc chuẩn bị cần được ghi rõ trong báo cáo thử nghiệm.
\r\n\r\nChú thích - Các mẫu thử có kích thước không\r\nlớn hơn 51 mm x
7.3. Điều
Các mẫu thử phải được giữ trong\r\ncôngtenơ mở
Mẫu thử được làm sạch bằng khăn\r\nxenlulô mềm. Trước hết cần lau bề mặt thử nghiệm bằng khăn trên ngâm đẫm trong\r\nhỗn hợp làm sạch gồm có ete dầu hỏa (nhiệt độ sôi từ 60 °
Trong mỗi trường hợp tiến hành thao\r\ntác lau năm lần theo một chiều trên mẫu, mỗi lần dùng một phần khác nhau của khăn và\r\nchỉ dùng một khăn.
\r\n\r\nCuối cùng dùng một cái chai bóp để rửa\r\nmẫu thử bằng nước tinh khiết để rửa sạch mọi sợi vải hoặc mảnh vụn trên bề mặt\r\nthử nghiệm. Sau đó sấy khô mẫu thử theo chiều thẳng đứng ở nhiệt độ 40\r\n°C
Ngoài ra các mẫu thử được phủ kín bằng\r\nmột lớp vật liệu hữu cơ có thể được thử nghiệm mà không cần làm sạch trước, nếu\r\ncó yêu cầu đặc biệt. Trong những trường hợp này, việc chuẩn bị mẫu phải được\r\ntiến hành bởi trung tâm thử nghiệm với điều kiện không được làm bẩn lên bề mặt\r\nđược thử nghiệm theo sự chỉ dẫn của nhà sản xuất. Nếu bỏ qua giai đoạn làm sạch\r\nthì phải ghi vào báo cáo thử nghiệm.
\r\n\r\n\r\n\r\n8.1. Xác định tốc độ đếm\r\nxung riêng của dung dịch gây nhiễm xạ
\r\n\r\nKhi gây nhiễm xạ theo quy trình nêu\r\ntrong 8.2, đổ 100 µl dung dịch gây nhiễm xạ lên từng tấm kính của ba tấm kính\r\nxây dựng có kích thước 50 mm x 50 mm vào điểm trùng với tâm của vết gây nhiễm xạ. Để\r\nlàm điều này có thể dùng một dụng cụ định vị hoặc một dụng cụ tương tự. Sau khi\r\nđể dung dịch khô ở nhiệt độ tối đa 45 °C, tiến hành đo tốc độ đếm xung của 3 tấm kính\r\nbằng thiết bị nêu ở
Chú
Thời gian đo phải là 1 min đối với mỗi\r\ntấm kính.\r\nCần\r\nhiệu chỉnh phông và thời gian chết.
\r\n\r\nNhân trung bình cộng của ba kết quả\r\nvới hệ số 10 sao cho kết quả được biểu thị bằng xung trên phút trên mililit.
\r\n\r\nXác định riêng biệt đối với cả hai\r\ndung dịch gây nhiễm xạ.
\r\n\r\n8.2. Gây nhiễm xạ
\r\n\r\nViệc gây nhiễm xạ có thể được thực\r\nhiện bằng cách sử dụng thiết bị trong hình 2.
\r\n\r\nĐặt mẫu thử vào dụng cụ định v
Gây nhiễm xạ mẫu thử bằng cách cho 1\r\nml dung dịch gây nhiễm xạ vào tâm của hình tròn có thể nhìn thấy được qua phần trên\r\n(U). Giữ giá kẹp ở
Đặt một đĩa Petri nhỏ lên hình tròn\r\nthử nghiệm tại miệng của phần trên U để ngăn sự bay hơi của dung dịch gây nhiễm\r\nxạ.
\r\n\r\nSau 120 min ± 5 min, dùng một pipet\r\n(5.4) hút hết dung dịch. Muốn vậy cần để giá kẹp nằm nghiêng. Sau đó lộn ngược\r\ngiá kẹp. Sau khi tháo đinh vít, nâng phần dưới (L) và tiếp đó nâng mẫu thử lên\r\nvà tránh không cho dung dịch làm bẩn các phần không bị nhiễm xạ của mẫu thử.
\r\n\r\nĐể tránh bay hơi cần đưa ngay mẫu thử\r\nvào buồng khuấy và bắt đầu tẩy xạ ngay sau khi các mẫu đã được cố định. Toàn bộ\r\nquá trình lấy mẫu ra khỏi giá kẹp và cố định chúng vào buồng kh
8.3. Tẩy xạ
\r\n\r\n8.3.1. Phương pháp
\r\n\r\nĐể tẩy xạ, c
Để bảo đảm cho diện tích nhiễm xạ của\r\nmột mẫu thử được định vị ở chính giữa ngăn của buồng khuấy, góc đối chứng của\r\nmẫu thử phải khớp với góc dưới ở phía bên phải của ngăn buồng khuấy. Đặt các\r\ncạnh A và B của mẫu thử lại tiếp xúc với các đường d và e của dụng cụ định vị,\r\nưu tiên cho tiếp xúc B-e (xem hình 4).
\r\n\r\nPhải dùng một tấm thép chống ăn mòn\r\naxit để đóng ngăn thứ sáu. Tấm thép loại này cũng được dùng để đỡ các mẫu thử\r\nrất mỏng, nếu không bề mặt của chúng sẽ không đủ phẳng.
\r\n\r\nNgâm buồng khuấy vào một cốc có mỏ\r\nchứa 900 ml ± 20 ml nước đã khử khoáng (6.2) sao cho buồng khuấy chạm vào đáy\r\ncốc (5.1). Nếu sử dụng cốc có mỏ khác với mô tả trong 5.1, cốc phải được đổ đầy\r\nnước đến mức tối thiểu như trong hình 4. Nhiệt độ ban đầu của nước phải là 23 °
Cho máy khuấy chạy trong 2, 5 min với\r\ntốc độ 100 vòng/min ± 5 vòng/min. Thay cốc có mỏ đó bằng một cốc có mỏ khác\r\nđựng nước và cho chạy máy khuấy thêm 10 s nữa. Lấy mẫu thử ra rồi sấy khô trong\r\ntủ sấy ở nhiệt độ 40 °C
Chú thích - Nếu thấy cần kiểm tra sự\r\ntái nhiễm bởi dung dịch tẩy xạ, tấm thép đậy ngăn thứ sáu có thể thay bằng mẫu\r\nthử không bị nhiễm xạ.
\r\n\r\n8.3.2. Xác định tốc độ đếm\r\nxung tồn dư
\r\n\r\nSau khi sấy khô, đo tốc độ đếm xung\r\ncủa mẫu thử đã tẩy xạ bằng cách sử dụng thiết bị quy định trong
Ngay trước khi đo tốc độ đếm xung tồn\r\ndư của các mẫu thử, phải đo tần suất xung phông với một mẫu thử không bị nhiễm xạ.
\r\n\r\nMỗi phép đo được tiến hành một lần, có\r\nhiệu chỉnh phông và thờ
Sau khi tẩy xạ, tính (riêng cho
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n
Việc tính toán này phải được thực hiện\r\nriêng cho 60
Chú thích - Giá trị 3
Tính kết quả cuối cùng (tức là tốc độ\r\nđếm xung tồn dư cuối cùng) là giá trị trung bình của các tốc độ
Tính dễ tẩy xạ đánh giá theo b
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n FRP < 3.000 \r\n3.000 ≤ FRP vòng/min <\r\n 15.000 \r\n15.000 ≤ FRP 60.000 ≤ FRP \r\n | \r\n \r\n | \r\n
10. Báo cáo thử nghiệm
\r\n\r\nBáo cáo thử nghiệm bao gồm các thông\r\ntin và số liệu được quy định trong phụ lục D. Hình thức trình bày như phụ lục D\r\ncó thể được sử dụng làm ví dụ về báo cáo thử nghiệm.
\r\n\r\n![](\"00911778_files/image005.jpg\")
![](\"00911778_files/image006.jpg\")
![](\"00911778_files/image007.jpg\")
\r\n\r\n
Chú thích
\r\n\r\n| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Trụ đỡ buồng khuấy \r\n | \r\n \r\n Thủy tinh acrylic \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Vít ren có lỗ đặt chìa vặn sáu cạnh,\r\n M3\r\n x12,\r\n theo ISO 4762 \r\n | \r\n \r\n Thép không rỉ chịu axit \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Trục khuấy \r\n | \r\n \r\n Thép không r | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Ổ bi rãnh sâu xuyên tâm với vòng đệm\r\n theo ISO 15 \r\n(Kích thước: | \r\n \r\n - \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Ổ trục của trục khuấy \r\n | \r\n \r\n Thủy tinh acrylic \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Giá đỡ Đường kính lỗ: f 3,4 \r\nKhe hở theo ISO 273 \r\nMũ chìm theo ISO 2009 \r\n | \r\n \r\n Polytetra | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Vít có mũ chìm chẻ, M3 | \r\n \r\n Thép không r | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Vít có mũ chìm chẻ, M4 | \r\n \r\n Thép không rỉ chịu axit \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Đĩa lục lăng trên \r\n | \r\n \r\n Thủy tinh acrylic \r\n | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Bộ phận kết nối \r\nĐường kính lỗ: f 4,5 \r\nKhe hở theo ISO 273 \r\nMũ chìm theo ISO 2009 \r\n | \r\n \r\n Thép không r | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Vít có mũ chìm dựng và chẻ, M3 | \r\n \r\n Thép không r | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Cánh khuấy \r\n | \r\n \r\n Thép không r | \r\n \r\n | \r\n
| \r\n | \r\n \r\n | \r\n \r\n Đĩa lục lăng dưới \r\n | \r\n \r\n Thủy tinh acrylic \r\n | \r\n \r\n | \r\n
Chú thích - Có thể sử dụng số đo tương\r\nđương không thuộc hệ mét cho vít.
\r\n\r\n![](\"00911778_files/image010.gif\")
![](\"00911778_files/image012.gif\")
\r\n\r\n
Các công thức dưới đây hướng dẫn tính\r\nlượng dung dịch gốc phóng xạ và dung dịch chất mang tiêu chuẩn hóa cần để chuẩn\r\nbị một dung dịch gây nhiễm xạ có nồng độ hoạt độ phóng xạ là 0,2 MBq/ml và 10
Thể tích cuối cùng của dung dịch gây\r\nnhiễm xạ được yêu cầu, tính bằng ml : r
\r\n\r\nHoạt độ phóng xạ cuối cùng của dung\r\ndịch gây nhiễm xạ được yêu cầu, tính bằng MBq :
\r\n\r\nThể tích dung dịch gốc hạt nhân phóng\r\nxạ cần để tạo ra hoạt độ phóng xạ 0,2 MBq/ml trong thể tích cuối cùng, r
\r\n\r\nHoạt độ của dung dịch gốc (theo số\r\nliệu của nhà sản xuất), tính bằng MBq/l : s
\r\n\r\nThể tích yêu cầu, tính bằng ml dung\r\ndịch gốc:\r\n
Nồng độ mol cuối cùng của chất mang\r\nđược yêu cầu, tính bằng mol/l: 10-5
Nồng độ mol cuối cùng được yêu cầu,\r\ntính bằng mol:
\r\n\r\nChú thích - Hệ số 10
Sự đóng góp của dung dịch gốc phóng xạ
\r\n\r\nNồng độ chất mang (theo số liệu của\r\nnhà sản xuất), tính bằng mol/l: = t
\r\n\r\nTổng số mol đóng góp:
\r\n\r\n![](\"00911778_files/image015.gif\"){kind=small}
Sự đóng góp được yêu cầu của các dung\r\ndịch chất mang đã tiêu chuẩn hóa Co(NO3)2 hoặc\r\nCsNO
Nồng độ chất mang, tính bằng mol/l: u
\r\n\r\nThể tích cuối cùng của chất mang đã\r\ntiêu chuẩn hóa được yêu cầu để sinh ra dung dịch làm nhiễm bẩn 10
Báo cáo thử nghiệm t
Phòng thử nghiệm:
Báo cáo thử nghiệm số:
__________________________________________________________________________
\r\n\r\nKhách hàng:
Họ và tên:
Địa chỉ:......................................................................................................................
\r\n\r\n__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1 S
1.1 Phác họa v
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.2 Tên nhà sản xuất vật liệu:
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.3 Mô tả vật liệu được thử\r\nnghiệm
\r\n\r\nMô tả của nhà chế tạo:
Màu, độ bóng, độ nhám của bề mặt:
Số liệu chi tiết (
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.4 Thành phần quan trọng c
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.5 Số liệu về sự sản xuất và ứng dụng
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.6 Vật liệu mang và và kích thước của mẫu\r\nthử:.........................................................
\r\n\r\n__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.7 Xử lý trư
.................................................................................................................................
\r\n\r\n__________________________________________________________________________
\r\n\r\n1.8 Ngày chuẩn bị mẫu thử:
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n2 S
2.1 Bề ngoài c
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n2.2 Số liệu về thử nghiệm tính dễ tẩy xạ:
2.2.1 Ngày thử nghiệm:
2.2.2 Dụng cụ đ
2.2.3 Đầu dò:.............................................................................................................
\r\n\r\n2.2.4 Tác nhân g
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n2.3 Kết quả đo
\r\n\r\n2.3.1 Tốc độ đếm xung tồn dư trung bình được\r\ntiêu chuẩn hóa:...................................
\r\n\r\n2.3.2 Tốc độ đếm xung tồn dư cuối cùng:
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n2.4 Đánh giá tính dễ tẩy xạ:
__________________________________________________________________________
\r\n\r\n\r\n\r\n
| \r\n
| \r\n \r\n | \r\n \r\n | \r\n
\r\n\r\n
Từ khóa: Tiêu chuẩn Việt Nam TCVN6854:2001, Tiêu chuẩn Việt Nam số TCVN6854:2001, Tiêu chuẩn Việt Nam TCVN6854:2001 của Bộ Khoa học Công nghệ và Mội trường, Tiêu chuẩn Việt Nam số TCVN6854:2001 của Bộ Khoa học Công nghệ và Mội trường, Tiêu chuẩn Việt Nam TCVN6854:2001 của Bộ Khoa học Công nghệ và Mội trường, TCVN6854:2001
File gốc của Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 6854:2001 (ISO 8690 : 1988) về An toàn bức xạ – Tẩy xạ cho các bề mặt bị nhiễm xạ – Phương pháp thử nghiệm và đánh giá tính dễ tẩy xạ đang được cập nhật.
Tiêu chuẩn quốc gia TCVN 6854:2001 (ISO 8690 : 1988) về An toàn bức xạ – Tẩy xạ cho các bề mặt bị nhiễm xạ – Phương pháp thử nghiệm và đánh giá tính dễ tẩy xạ
Tóm tắt
| Cơ quan ban hành | Bộ Khoa học Công nghệ và Mội trường |
| Số hiệu | TCVN6854:2001 |
| Loại văn bản | Tiêu chuẩn Việt Nam |
| Người ký | Đã xác định |
| Ngày ban hành | 2001-01-01 |
| Ngày hiệu lực | |
| Lĩnh vực | Hóa chất |
| Tình trạng | Còn hiệu lực |